滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

大品牌都是值得信赖的，刻录很稳定，读盘基本没有声音。。真的是即插即用，小巧好看，驱动非常快速，播放顺顺利利的，刻录也非常给力，我第一张就刻录就成功了，太顺利了吧！好东西！

先锋大品牌老品牌值得信赖，买来用于替换原来的普通DVD光驱，复盘速度很灵敏，刻录一张8GB的光盘最多八分钟，而且读写声音很小很稳定，非常满意.

ASML发出正式警告:限制向大陆出售光刻机将重创全球芯片产业链

读盘声音：声音小 轻薄程度：比较有质感 外形外观：质量看着很好 产品包装：包装完美 读盘速度：运行快 稳定性能：特别稳定

对于High-NA EUV技术之后的技术方案，ASML正在研究降低波长，但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方，其制造和使用成本都高得惊人，且不一定能真正投入生产，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头

特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用

ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术

??先锋8倍速 USB2.0外置光驱DVD刻录机，连接笔记本电脑，质量可靠非常满意，刻录机很好，收到后就安装上，就刻了一张cD盘和一张D9盘，非常不错。

目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了

但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢

而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试

京东就是这么牛，服务很好，快递物流超快，第二天就收到件了，佩服啊。读碟快 刻录静音 音质很好 先锋就是先锋

终于拥有自己的刻录光驱了，比我上一个只能读取的上了一个台阶，很满意！现在很多机箱都没有光驱位了，为了方便起见，配了先锋DVD刻录机，质量很好。

上海微电子 65nm光刻机

不过，对于阿斯麦的指责，东方晶源立刻发布了官方声明，表示阿斯麦的指责是不实信息，东方晶源的所有产品，都是拥有独立的知识产权体系

非常好用的一款刻录机，读碟快，而且静音。马达声音很柔和，没有激烈的读盘声音。刻盘稳定。质量不错

台积电业务开发资深副总经理张晓强则表示，2024年取得设备后，初期主要用于与合作伙伴共同研究，尚不会量产

具体的量产将会是在2025年

而根据ASML今年4月披露的信息显示，目前ASML在位于 Veldhoven 的新洁净室中已经开始集成第一个High-NA EUV光刻系统（EXE:5000）

而且仅有技术还不够，还需要持续多年的巨大资金投入才可以，比方说，阿斯麦在过去的40多年时间里，为了研发最顶级的光刻机，已经投入了近4000亿元

可以说，仅仅是资金投入研发这一方面，事实上，对于绝大多数的企业来说，都是一个很大的问题，这也是为何阿斯麦如今成为国际光刻机巨头的原因

不过，对于阿斯麦的指责，东方晶源立刻发布了官方声明，表示阿斯麦的指责是不实信息，东方晶源的所有产品，都是拥有独立的知识产权体系

在这件事的背后，事实上还可以看出另一个问题，那就是尽管如今我国的科学技术领域发展，已经今非昔比了，但是，在某些领域，仍然是存在不足的，从而容易被西方国家“卡脖子”，甚至稍有成就，就会被他们抹黑

美国人为什么要限制我们购买?

在芯片制造过程中，并不是一次曝光就可以完成的，在制造过程中要经历多次曝光，这也就意味着，在芯片制作过程中要进行多次对准操作

芯片的每个元件之间都只有几纳米的间隔，在这种情况下，掩膜与硅晶圆之间的对准误差都必须控制在几纳米范围内

反射镜的作用是把模板上的电路图等比例缩小，在硅片上以电路图的形式呈现出来，这是制造芯片的关键元件

ASML公司EUV光刻机的反射镜来自德国的蔡司

EUV多层膜反射镜作为光学系统的重要元件，成为了EUV光源的一项关键技术，需实现EUV波段的高反射率

挺好的，和想象中一样，随意搭都很好看，满意！实用性和颜值都非常的赞，我很喜欢，还会再来买的宝贝做工真的非常精细，细节真的棒，爱了爱了

中国光刻机被卡脖子

一、ASML对前景的担忧ASML拥有最先进的光刻机，这是它的核心竞争力，但是全球芯片行业已陷入衰退阶段，诸多芯片至企业都暂停了产能扩张计划，甚至连最大的芯片制造企业台积电都关闭了部分EUV光刻机，如此情况下ASML的光刻机就从此前的不愁卖到如今的难卖

在ASML对中国销售光刻机踟蹰不前的时候，今年三季度中国招标了28台光刻机，其中21台给了日本企业，而中国本土企业取得了7台光刻机订单，ASML一台都没有得到，中国显示的态度就是世界上供应光刻机并非只有ASML一家

可以帮助芯片制造商继续向7nm及以下更先进制程工艺推进的同时，进一步提升效率和降低曝光成本

目前，EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片制程推进到3nm制程左右，但是如果要继续推进到2nm制程甚至更小的尺寸，就需要更高数值孔径（NA）的High-NA光刻机

我的外置刻录机坏了，买这个来更换，感觉还可以吧。毕竟才几十块钱。一直最喜欢京东网自营商品里面的唱片，图书，每次活动都会购买一批，可以剩下很多钱，京东网自营商品让人放心，服务一流，让人满意，没有后顾之忧，正品保证！

光刻机集成电路原理

因此我国的光刻机技术水平仍然需要不断努力突破，才能弥补这个差距

　　【中国光刻机的三次“突破”】　　在1952年，我国步入计算机科研，国家也正是成立了计算机科研小组，而此时的中国相对于外国来讲，GDP仍然差距较大

　　直到1956年，我国正式开始重视半导体产业，并且成功研制出第一只晶体三极管，从此中国进入半导体的新纪元，然而此时相对世界上第一只三极管的诞生已经过去了长达9年的时间

　　此时的中国就已经意识到了其重要性，快速向半导体产业进军