迷你激光刻机
High-NA EUV预计2024年出货,每台价格至少3亿欧元在今天的新闻发布会上,温宁克还介绍了ASML新一代High-NA EUV光刻机的进展,预计将于2024年开始发货,每台设备的价格在3亿至3.5亿欧元之间
相比目前的0.33数值孔径的EUV光刻机,High-NA EUV光刻机将数值孔径提升到0.55,可以进一步提升分辨率(根据瑞利公式,NA越大,分辨率越高),从0.33 NA EUV的13nm分辨率提升到0.55 NA EUV的低至8nm分辨率(通过多重曝光可支持2nm及以下制程工艺芯片的制造)