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读盘速度：读取速度挺快 读盘声音：很安静 稳定性能：兼容性好，win10免驱 产品包装：完美 外形外观：大方

小孩子幼儿园有很多光盘发下来，笔记本又没配备光驱。网上一搜，外置光驱就选中了这款。从价格上看并不便宜。主要谁买大牌，图省心，毕竟还是需要用长时间的。完美解决问题，连上笔记本就能用。希望能一直用下去。

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年

中国准分子激光DUV光刻光源测试原始记录关于国产DUV光刻光源的考证原文：解读中国28nm光刻机（一）:深紫外DUV光刻机光源的曙光结语在上述关于光刻机代差分析里，我们剥离出未来十年的2代代差和过去十年的3代代差，而这正对应于我国的光刻机研发工作的针对目标：1，在过去十年的既有技术上的突破，显而易见，自2019年开始国际形势突变之后，我们不再具有轻易获得西方的成熟技术、并依托其上进行迭代式发展的模式

“突破点”出现

真是神速，昨天下午下的单，今天上午快递员就把货送到了，打开自己安装后，效果非常好，读碟速度快，播放顺畅，满分好评。

足以见得，日半导体不是那么想要跟随限制

这一点从现在老美直接施压也可以看出一点苗头

那么基于这个情况下，想要日半导体跟随老美的限制很大可能是存在意外的

更凑巧的是，在传出了老美直接的要求之后，日半导体之前内部所建立的芯片联盟有了新的动向，那就是短时间内就将研发提上了日程

读盘速度：速度快。 读盘声音：声音小。刻录声音也不大。 稳定性能：性能稳定。 产品包装：包装很好。

不管是台积电，还是三星，或者intel，都不敢也不能得罪ASML，否则不卖EUV光刻机给你，就“芭比Q”了

按照ASML CTO的说法，到2025年时，ASML会推出全新一代的极紫外线光刻机，型号会是NXE:5200，其采用的数值孔径会达到0.55NA，数值孔径越大，精度越高

ASML压力山大:EUV光刻机

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片，可能EUV光刻机就无法胜任了，要推出全新一代技术，至于是什么技术，目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机，可以生产0.768nm的芯片，但无法大规模量产

面对芯片技术的新进展，中国其实在量子芯片技术方面也并不落后，中国庞大的技术人员有助于中国在量子芯片技术方面加快赶超美国芯片的进展，这两年中国已取得了不少量子芯片技术专利

今年7月中科大的郭光灿教授团队就宣布首次在拓扑保护光子晶体芯片中实现量子干涉，奠定了中国量子芯片的基础，此外还有诸多芯片企业在量子芯片技术方面持续投入，深圳科技企业就宣布了多项量子技术专利

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。

读盘速度：很快 读盘声音：不大 稳定性能：很稳定 轻薄程度：合适 外形外观：完好 产品包装：结实

在美国政府看来，虽然中国出口的中低端芯片不会对美国、韩国以及欧洲等国制造的高端芯片构成挑战，但是中国也凭此占据了产业链中极为重要的一环，如果哪一天中国提高中低端芯片的售价或者限制出口量，一些同处一条产业链上的美欧企业，将会受到极大的影响

也就是说，美国政府不但不想让中国在高端芯片领域取得重大突破，同时还想限制中国中低端芯片的产能

二是防止中国的光刻机技术取得突破，众所周知，一般一项技术的发展，遵循循序渐进的原则，也就是从落后到先进，光刻机的发展也是如此，阿斯麦公司现在最先进的EUV光刻机也是一代一代升级而来的

做工不错，手感很好，刻录功能还没使用，应该用到的机会不多。平时主要用于读DVD盘，便携性很好。 纸盒包装上还有温馨提示，再次核对型号是否正确，方便退换货，很人性化。

ASML果然硬刚了美国

外包装没有温謦提示封条。读盘还快，刻录dvd光盘5分多就刻好了。包装完整，安装方便，装好以后读盘速度很快，很不错的一个光驱，值得购买

而美国为了改善这一局面，要求ASML禁止向大陆出口DUV光刻机

根据国际光刻机出口数据统计，28nm以上芯片市场份额占据全球芯片市场的76%，也就是说DUV光刻机出口才是ASML贸易大头

正品，一直以来都用这牌子的刻录机，先锋刻录机稳定性好，读取速度快，读盘的声音小 刻录光盘很少有飞碟，可以刻录多种型号的光盘，刻录的光盘质量很好，能够保存的的时间长，是备份数据的好帮手，物有所值，很好用。

也正因为如此，荷兰才会力争光刻机出货

不仅是因为技术可控性的原因，也在于DUV光刻机是ASML维持中国大陆市场运营的重要保障

目前中国大陆是ASML第三大市场，ASML不希望失去中国大陆市场的支持

而且还在加码布局，在中国招募更多的员工，并放宽了社招的条件

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

读盘速度：很快很强 读盘声音：比较轻 稳定性能：性能稳定可靠，容错能力强 外形外观：很好看 轻薄程度：适中 产品包装：精致

如今在全球市场上，能生产出先进EUV光刻机的只有ASML公司一家；凭借着垄断的优势，也让ASML公司在光刻机领域赚的是盆满钵满；而ASML公司也曾公开表示：就算是公开EUV光刻机的图纸，中国也造不出来！这也说明光刻机是非常难造的；据悉一台EUV光刻机拥有超10万个零部件，这些零部件精选全球超5000家供应商；而我们想要凭借一己之力去造EUV光刻机也显然是不太现实的！值得一提的是，不管怎么说EUV光刻机是人造的，而不是神造的，只要我们肯加大自主研发的力度，那么就没有什么是不可能的；为了解决卡脖子的难题，华为等众多的国产科技企业都选择了埋头苦干，在国内科技企业的不不断努力下爱，现在国产光刻机已经实现14nm技术的突破，未来也是十分可期的

报道称，由于无法获得荷兰政府的出口许可，ASML已经无法向中国出口其最先进、每台售价约1.6亿欧元的EUV光刻机

而美国此次针对的这些旧款DUV光刻机，可生产7nm及以上制程工艺芯片，是制造汽车、手机、计算机乃至机器人所需的某些非先进芯片的最常用设备，在目前全球芯片短缺之际必不可少

他认为中国目前不太可能独立掌握顶级光刻技术

其次是企业的业绩

7月5日，国内刻蚀设备（光刻下游，溶解光刻胶部分金属）厂商中微公司（688012.SH）发布2022年中报预告，公司预计今年二季度营收19.7亿元，同比增长47.1%