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所以长光集智光学是一家国有控股企业

长光集智光学的股东隶属关系图长光集智光学科技有限公司：ZETOP打开这家新创办半年的企业官网，其主要信息还没有更新，唯一有参考价值的信息是招聘信息

长光集智光学主页从长光集智光学的招聘信息可以看到，其招聘岗位包括光学设计、光学元件检测、光学系统、系统检测&集成、光学加工、光学薄膜、光机结构、仿真分析、软件开发、机电控制等10个方向

光驱收到了，非常好用，连续刻录了10张都成功了，先锋这个牌子还是值得信赖的。整体来说还是很不错的，店家服务态度很好，而且质量也很好，比前的华硕好用太多，开心

稳定性能：非常稳定 读盘速度：速度快 读盘声音：无噪音 外形外观：精致美观 轻薄程度：轻薄

GALA - 追梦赤子心.mp35:17来自C点科技美国试图进一步阻碍中低端的DUV光刻机出货

对此，荷兰并没有答应，而且ASML宣布了未来大幅度扩产的计划，估计是为了获得更多的市场支持

所以ASML至今也无法在特定市场区域出货EUV光刻机设备，只能台积电、三星、英特尔等大客户贡献主要的EUV光刻机销售额

光刻机（lithography）又叫光刻系统，是制造各种芯片所必不可少的一种设备，其主要是采用类似冲印照片的方式，将掩膜版上的精细图形通过光线印制到硅片上

而我们大家都知道，如今的生活之所以这么方便，跟大家日常使用的大量的电子设备是分不开的，大家常用的手机和电脑里面都会安装有芯片，而在武备领域同样也是如此，无论是天空中的战斗机还是海里舰艇都离不开芯片

刻录机包装完好无损，外观设计漂亮，性能稳定。物流超快。感谢商家和快递小哥！包装很完整，做工也不错，入手很轻，读盘顺畅，还没试着刻盘

　　所以即使光刻机售价极高，留给ASML的利润也并不高，命脉捏在美国手里，不听从指挥也无法组装，事实上ASML也是被卡脖子的一环

　　昂贵的售价逼退了全球不少芯片制造企业，截至目前，能做到这个技术的也不过三个国家，其中能制造出高端光刻机的仅有日本和荷兰

国际品牌日本先锋，光储存行业老牌巨头出品的入门级内置式DVD刻录机，兼容CD、VCD、DVD读取，CD-R、CD-RW写入，DVD-R、DVD RW双层写入，读盘性能稳定，迅速安静，后背为铝制外壳，非常坚固，还附带安装螺丝，非常高性价比的一款DVD刻录机！强烈推荐！

而近日，ASML方面又做出了新的计划，其表示将在2025年实现600台DUV的生产能力，但EUV光刻机只有90台，其高NA EUV光刻机，则是到2028年实现20台的产能，可以看到在产能上的对比强烈，DUV的产能是EUV的近七倍，是高NA EUV光刻机产能的至少30倍

帮同事升级电脑，装了固态硬盘，加了光驱，重装了win10系统，电脑速度一下子提高了许多。同事很开心。

读盘速度：读盘速度很快，并且很稳定。 读盘声音：声音有一些读盘机械转动的声音不是很大。 稳定性能：性能稳定可靠。大品牌的东西一直在用。 轻薄程度：台式机装机内置光驱的性价比最高的大品牌经典产品。是标准内置光驱的大小。 外形外观：金属外观，结构结实。 产品包装：产品包装牢固可靠完好。内置减震泡沫，防止磕碰。新款产品外包装印刷图案区别于老款。

很不错，做工精细。没配SATA线，附件电脑店买一条，装上，电脑认不出。进BIOS设置，解决。读盘速度：非常好读盘声音：非常好稳定性能：非常好轻薄程度：非常好外形外观：非常好

由于自家的光刻机中需要使用美国生产的零部件，即使荷兰政府不出台相关政策，ASML 也已经受限于美国的出口管制措施，没办法向中国出口最先进的极紫外线（EUV）光刻机（可以用于生产 7nm 及更先进的芯片）

很好。安装好后一点就亮！先锋的就是好用！不挑碟的机子！一直信赖着。还以为它不会出新产品了呢！?赞！

质量非常好，与描述的完全一致，非常满意,真的很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，服务态度很好，运送速度很快，很满意的N次购物

光刻机的难度和**

收到货好几天了，在用这款writer，感觉还不错，已经刻了一张，性能不错，而且方便携带，包装还好，物美价廉的好商品！

正是由于这样的原因，才让中国的芯片制造企业起色一直不太好，而美国方面的打压，也让我们的芯片制造行业进入了一定的低谷期，但即使这样中国也没有放弃在这方面的技术突破，甚至在美国打压的那段时间，我们发动的科研人员，国家企业，以及很多民营企业做共同的努力，所以最后的成效，虽然比较好，但是想要赶上发达国家还是不太可能

物流很快，买完第二天就到了，现在已经刻了快50张光盘，无一失败，就是不知道能用多久，希望能多用几年

ASML总裁兼首席技术官Martin van den当时就表示，英特尔对ASML在High-NA EUV技术的远见和早期承诺证明了对摩尔定律的不懈追求

今年9月，台积电研究发展资深副总经理米玉杰也对外表示，台积电将在2024年取得ASML新一代High-NA EUV光刻机，为客户发展相关的基础设施与架构解决方案

光刻机的工作过程示意图第二就是工作台的高精度移动，因为要配合芯片加工的情况，工作台在工作的时候必须要保持同步精准，不然即使光刻技术没问题，也会因为细小的偏差功亏一篑

此外还有耗电、反射镜等高新技术问题，都是光刻机能否顺利制造的关键

首先EUV光刻机的总重量达到了180吨，需要几十个集装箱运输，并且即使运到了地点也要准备一年的时间等待安装调试

可以看出，光刻机绝对不是大家想象中的“小玩意儿”，它是非常庞大和复杂的

每一个零部件的调试都至关重要目前的高端光刻机的制造主要面对几个技术难题，第一就是解决“光源”的问题

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

中国除了继续研发光刻机之外，还在研发无需光刻机的芯片制造工艺，这方面已有日本做出示范，日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用，证明了无需光刻机也能生产芯片，而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产，如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾