ASML 公告还透露,公司的 EUV 高 NA 业务中,已收到了来自供应商的第一台高 NA 机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台
这些模块将用于初始测试和集成,这是 EXE:5000 程序的重要一步
此前据 BusinessKorea 报道,三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的高数值孔径(High-NA)EUV 光刻设备达成了协议
国产最高光刻机
ASML 表示,利润率受到了通胀成本上升的影响,此外,一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货,导致了延迟确认收入,从而影响了收益