但是这么多重点,主要应该抓哪些呢?最终四个国际上发展很快,而我国还处于空白的领域,成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”,其中之一,便是半导体
1961 年,美国GCA 公司制造出了第一台接触式光刻机
关于我国最早的光刻机,有一种说法是1966年,中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作,研制成功我国第一台65型接触式光刻机
比如清华大学的徐端颐团队,成立之初多达数百人,有技术超群的钳工、搞精密机械加工的师傅,还有搞计算机控制的技术工人,但是没有一个人懂光刻机,徐端颐团队研制新设备,全部图纸都要自己设计,全部零部件都是自己加工制造,一切从零开始,边干边学