2002年上海微电子装备有限公司成立并开始投入到光刻机的研发中,2008年《极大规模集成电路制造装备及成套工艺》(专项02专项)将EUV技术列为下一代光刻技术重点攻关的方向,并计划在2030年实现EUV光刻机的国产化
先是中芯国际正常下单的EUV光刻机的交付时间不断推迟,直到今天依然没有交付,EUV光刻机也形成了事实上的“断供”;其后一直在正常交付的DUV光刻机成为了新的目标,多家外媒报道美国政府正在向ASML施压要求不准继续向中国销售DUV光刻机
因为在光刻机和半导体行业里,技术最先进的公司将垄断大部分利润,而技术落后的一方在很长一段时间之内很难获利