滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

在芯片设计上，28纳米工艺只需要4280万美元，7纳米则需要2.486亿美元，3纳米已经需要5.811亿美元，2纳米预计需要7.248亿美元，所以一颗3纳米芯片的设计成本，就是28纳米工艺的近14倍，超40亿人民币

而受到影响最大的，应该就是ASML，因为市场对EUV光刻机的依赖性将会降低，事实上，在芯粒和先进封装技术被应用后，这种对EUV光刻机的依赖性已经出现降低的现象，例如无论是英特尔的欧洲工厂还是台积电的美国工厂，都没有采购新的EUV光刻机，而是通过移机的形式，即采用老工厂的旧设备，台积电甚至还将3纳米工艺的产能缩减了约8成，7纳米工艺的一座新厂也被取消

南大光刻机进场

?直接从主机前面的口插进去的，插上线，开机放碟，立马就可以用了。很快。目前没什么问题。

而是先通过外包采购、委托其他厂商提升技术等方式快速发展壮大，具备了一定的实力后才开始步入研发合作的轨道

当美国等其他其他国家看到荷兰ASML 公司巨大的商业价值和发展潜力后，也纷纷加入到支持ASML公司的行列中来，如生产一台euv光刻机，大概10%的零件来自ASML自己，90%的零件来自其他国家

很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！

而ASML也一反常态，称自己是一家欧洲公司，DUV光刻机采用了少量的美技术，可以正常出货给中企

事实上ASML也是这样做的

据公开数据显示，ASML在中国市场拥有15个办事处、11个仓储物流中心、三个开发中心、一个维修中心，员工人数超过1500个

正如人民日报说的那样：关键核心技术是要不来、买不来、讨不来，若不自立自强，必有“卡脖子”之虞

国内企业应该放弃幻想，聚四海之气，借八方之力，自立自强不是关起门来搞科研

总而言之，与其对老美“松口”抱有幻想，还不如脚踏实地、身体力行地去完成全产业链的国产化替代，只有自己手中“有粮”，才能遇事不慌

非常好，读碟很快，刻录速度快也很稳定，送货神速。好评！先锋刻录机，装进去马上能用。老品牌值得信赖！和我的酷冷至尊机箱很匹配。

中国的光刻机技术成果目前中国自主研研制的90nm光刻机已经商用，并且已经成功攻克DUV浸润式光刻机的主要技术；上海微电子研制的28nmDUV光刻机，就可以用来进行14nm芯片的生产

别看这14nm好像还差得远，要知道，平时我们虽然听什么14nm、7nm甚至是3nm听多了，对芯片的技术失去了概念，但其实只要跨过 28nm制程这道难以逾越的墙壁，那就算是排在世界尖端的水平了

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结果光这台激光器，通快公司就用了十年才生产出来

这台激光器自己就有457,329个零部件

用激光器打锡球成功了，你还得把产生的极紫外光收集起来，为此你需要镜子

可是极紫外光的波长太短，打在一般东西上都被吸收了，并不会被反射！研究人员一算发现这个镜子必须是分层的：一层金属钼一层硅交替排列，每层的厚度只有几纳米，而且要做一百层

除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?中国的光刻机生产技术

回来就试了一下，挺好，声音超级小，耳朵贴上去才能听到声音，好评！东西不错物美价廉关键是在也不用担心坏了来回@京东上门换新这点我非常喜欢

不过佳能面临的处境还是组件短缺和客户延迟工厂建设，所以部分FPD光刻机的交付都被推迟到了明年

小结从尼康和佳能两家的财报来看，他们都没有屈服于ASML可怕的实力，仍在积极推动DUV光刻机、FPD光刻机的销售和交付，与此同时也都在低调地进行着下一代光刻系统的研究

美媒认为，施赖纳马赫尔的这番言论标志着荷兰官员首次公开阐述他们在这个问题上的立场

同时，这番言论也突显了美国在说服盟友加入自己行动方面所面临的重大挑战

不可否认的是，在高端芯片制造领域中国还有很多不足，其中主要原因就是缺少制造高端芯片光刻机

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中企收购该晶圆厂会给英国安全带来两大风险，一是此次收购将导致其生产技术和经验泄露给中方，并削弱英国生产芯片的能力；二是该工厂位于英国重要工业园区内，中资企业与园区内半导体集群的密切联系可能会阻碍该集群从事与“国家安全”相关的未来项目

　　曾经编写过《光刻掩模版的制造》武汉无线电元件三厂，一度还卖起了副食品

徐端颐团队也退出了光刻机的研究，转向光盘技术领域，还拿到了国家发明二等奖

　　【3】从头再来　　2002年，荷兰南部的边境小镇费尔德霍芬，来了一批西装革履的中国人，他们身上背着一项沉重的使命——研发刚被列入“863重大科技攻关计划”的新型光刻机

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对于现有的硅基芯片，全球最大的芯片制造企业台积电研发先进工艺已遇到了巨大阻力，3nm工艺已延迟了一年，在今年三季度研发成功后却被苹果认为用它试产的A16处理器性能不达标，成本却太高，最终苹果舍弃了3nm工艺，导致台积电的3nm工艺面临无客户采用而没有量产

紫外光刻机相关股票

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台积电是ASML的第一大客户之一，更是EUV光刻机的主要买家，在台积电给了ASML一记重锤之后，ASML一直顺从的美国却又给了它一记重锤

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在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机

还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm