滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

读盘速度：17首歌大约15分钟内录完.还是挺快的。 读盘声音：声音很轻，完全能接受。 稳定性能：昨天收到后只用一次，中间没出故障。以后再观察一下。 轻薄程度：小巧玲珑，很轻。拿取方便。 外形外观：黑色的，做工精致，细腻，棱角处处理的很优雅。总体很美观。 产品包装：包装盒里边有专用泡沫塑料夹层固定，牢固又防震。而且包装盒也漂亮。

比方说，此前阿斯麦的CEO就曾经公开表示，中国是永远不可能独立制造出顶级光刻机的，而他的观点，也让很多人觉得，这是对中国科研工作者的“挑衅”

很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！

先锋的刻录机确实很稳定，效果也很好，已经用了好几个了，又买了一个感觉，确实不错。小巧玲珑，播放翻录效果都好，很安静，刻录还没用暂不需要，是一款超赞的小光驱！拍照为证。

要造反?ASML对华供应DUV光刻机显现曙光 欧盟荷兰反对频繁施压重生之光刻机

读盘速度：速度还是相当快的，大概2秒左右。 读盘声音：声音很小，主要是用来放音乐?的。 稳定性能：性能指标还可以，支持各种格式的光盘?兼容性比较好。 轻薄程度：大小刚刚好，能放在光驱位，要螺丝固定。 外形外观：外观很别致，很简洁。 产品包装：包装盒完好，还送了数据线。

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

缺芯浪潮仍未得到切实缓解，根据汽车行业数据预测公司AutoForecast Solutions（以下简称为AFS）的最新数据，截至7月31日，由于芯片短缺，今年全球汽车市场累计减产量约为281.02万辆

国产光刻机的漫漫长征路

光刻机板块策略机会：光刻机板块情绪策略主要条件板块:光刻机;游资控盘度(游资高控盘, 游资关注);预收账款同比变化≥10%;在建工程同比≥10%;筛选条件：选股数量 (3,5);筛选因子:波段操作评分(从大到小);黑名单剔除;ST剔除;涨跌停剔除;光刻机板块情绪策略来源：阿牛智投我们按照上面的选股条件，依托大数据系统构建一个策略模型，策略表现情况如下：在2017年8月2日到2022年8月2日这五年时间里，策略年化收益能够达到24.89%，累计收益高达204.03%，最大回撤可以控制在27.91%，风险回报率达到1.00；而光刻机板块在这段时间里累计上涨了90.56%，上证指数更是累计下跌3.01%；策略表现在跑赢大盘的同时，也远远好于光刻机板块本身的上涨幅度

ASML CEO:High-NA EUV将于2024年出货

外观非常轻薄小巧，颜色是经典的磨砂黑色，手感观感都还不错。产品外包装中规中矩，上开式的打开方式很特别，还有很人性化的防锁死按钮，整体设计很到位。读盘声音安静，读写速度目前还没有特别感觉，使用后再来追评。

读盘速度：刚开使用，读盘写盘都还是很不错的，希望一直质量不错，耐用一些就很棒了

简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东，还没用，应该没问题。物流超快。

目前的顶尖芯片制造三强，台积电、三星、英特尔，通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展，获得了大量的利润，进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发，从而形成一个良性的循环

“弯道超车”党看不见这些，他们整体呼喊着“弯道超车”的“商业模式”，无非是左右国家科技投入政策，将一笔又一笔的千亿规模的投资投入到他们的“弯道超车”的游戏模式中去罢了

中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值我们为何不能自行研究光刻机

很好，已经第二次购买，能写入dvd-ram，数据安全有保障。先锋(Pioneer) 16X内置蓝光刻录机质量非常好 值得信赖 好评五星

其实类似的现象在石墨烯技术上也有所体现，石墨烯技术被认为是最尖端的技术之一，由于它自身的特性，石墨烯技术用于电池上可以提升电池容量和充电速度，用于芯片上则可以大幅提升性能，因此全球都在积极研发石墨烯技术

国内有科技企业公布了EUV光刻机专利，热闹了几天，然而仔细想来，这专利恐怕对于中国光刻机产业影响有限，离量产依然很远，就如此前的石墨烯专利一样

EUV光刻机可谓是科技行业的皇冠，它集中了全球诸多科技的精华，ASML的EUV光刻机需要大约10万个零部件，由德国、美国、日本等诸多国家的大约5000家企业供应相关的元件，可见它的高度复杂性

光刻机规格

非常好，便宜实惠，安装方便，不用任何驱动，内置光驱比外置的寿命长，就是携带不方便，是sata接口的，没有数据线，物流速度非常快！

硬抗美国施压!荷外贸大臣:对华出售光刻机 荷兰...

因此，阿斯麦尚不能违反美国方面要求向中国供应该设备

7-14纳米机会阿斯麦的DUV光刻机能够覆盖7-14纳米的芯片，且该公司目前100%地垄断了能够制造10纳米以下芯片的光核机设备

美国在出台政策限制中国获取高尖端半导体设备的同时，仍担心阿斯麦通过DUV让中国能够发展7-14纳米级别的芯片

按照Zyvex的说法，这台ZyvexLitho1是可以商用的，还可以接受别人的订单，具体多少钱一台，不清楚，但机器对方可以在6个月内出货

虽然可以对外出货，但国厂商，想要买到它，可能就千难万难了，基本不太可能，毕竟EUV光刻机都买不到，更不要说精度更高的电子束光刻机了

众所周知，目前最顶尖的光刻机是ASML的EUV光刻机，能够制造3nm的芯片

EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造

而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先

而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA