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提供光刻机所需材料企业

读盘速度：17首歌大约15分钟内录完.还是挺快的。 读盘声音：声音很轻，完全能接受。 稳定性能：昨天收到后只用一次，中间没出故障。以后再观察一下。 轻薄程度：小巧玲珑，很轻。拿取方便。 外形外观：黑色的，做工精致，细腻，棱角处处理的很优雅。总体很美观。 产品包装：包装盒里边有专用泡沫塑料夹层固定，牢固又防震。而且包装盒也漂亮。

应急买来用，很棒，安装方便，没有什么难度，用起来很好，下次还会购买，东西很好，推荐给大家，算是一个很好的配角，声音小，性能稳定

如果对比现在的DUV光刻机产能，ASML相当于在三年时间里要把DUV光刻机的产能提升近三倍，我们知道，DUV光刻机是用于生产成熟工艺的设备，目前像台积电、三星、英特尔等巨头芯片代工厂，在成熟工艺上都已经很早就购置了大量DUV光刻机，那么ASML生产这么多的DUV光刻机卖给谁呢？答案已经不言而喻

事实上，现在ASML已经看到了其EUV光刻机在未来的销售会不乐观，先看台积电，首先是台积电已经取消了一座7纳米工厂，其现有7纳米生产线的利用率已经不到50%，也就是说，大量的EUV光刻机已经处于关机状态，其3纳米生产线至今闲置，而且还削减了大量产能，近日台积电更是表示没有计划在老美建设3纳米工厂的计划

而受到影响最大的，应该就是ASML，因为市场对EUV光刻机的依赖性将会降低，事实上，在芯粒和先进封装技术被应用后，这种对EUV光刻机的依赖性已经出现降低的现象，例如无论是英特尔的欧洲工厂还是台积电的美国工厂，都没有采购新的EUV光刻机，而是通过移机的形式，即采用老工厂的旧设备，台积电甚至还将3纳米工艺的产能缩减了约8成，7纳米工艺的一座新厂也被取消

ASML恐始料未及

Pioneer 外置光驱很好使用，兼容macOS系统，读碟声音很小。很好的一款光驱，先锋品牌质量不错，虽没有用同样给予好评！

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用进口光刻机以进场粤

所谓high-NA即高数值孔径，从当前的0.33提升到0.55，从而允许更紧密的电路图案（2nm及以下）和更高的生产效率

据报道，高NA EUV光刻机系统的单台造价将在3亿到3.5亿欧元之间，约合人民币21.95到25.61亿元

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

据美国彭博社报道，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔11月22日表示，在向中国出售芯片设备的问题上，荷兰将捍卫本国的经济利益

可以看出，美国试图在半导体行业建立起围堵中国的“墙”正在“四处漏风”

施赖纳马赫尔还指出，如果将荷兰的EUV光刻机交到美国“手上”，荷兰将会面临更加糟糕的局面

读盘速度：很快 读盘声音：不大 稳定性能：很稳定 轻薄程度：合适 外形外观：完好 产品包装：结实

快递超级给力，次日达。本次活动也可以呀。先锋的刻录机，多年的老牌子了，DVD刻录机还用着这个的。目前支持4K的光驱极其稀少了

自打U盘流行，硬盘容量大了之后，光驱就离我们越来越远了，刻录机也不例外，现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐，而CD正是最好的载体，所以空着多年的光驱位又要启用了，当日下单次日即收到，趁孩子睡午觉立即刻了两张盘，刻录能支持最大速度，但我用的是最低速度来，一张CD刻好也只需十来分钟，刻好立即回放读碟，效果棒棒的，这光驱不管读还是读都叫我满意！

使用方便，安装简单，调配容易，效果不错，非常好用，商品很好很不错，性价比很高，物美价廉，非常好的一次购物体验

极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年全球每年能生产几台光刻机

先锋大品牌老品牌值得信赖，买来用于替换原来的普通DVD光驱，复盘速度很灵敏，刻录一张8GB的光盘最多八分钟，而且读写声音很小很稳定，非常满意.

非常好，一开始没用起，找售后了解后用起了，效果非常棒，售后很热情，必须五星评起

轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期

先锋的刻录机非常好，老品牌了，以前就经常使用，质量好，价格实惠，非常满意，快递非常快！

第二大方案是电子束光刻机(EBL)，用高能电子束来替代极紫外线，电子对应的波长只有0.04纳米，加工精度就比EUV又高了不少

目前在这一块比较突出的是美国，前不久前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm）

asml拒绝美要求禁止对华出售光刻机

并且Zyvex还接受电子束光刻机订单，称只需要6个月就可以交货，很明显，这种技术也能够替代EUV光刻机，唯一的用这种方式，速度非常慢，但后期还有改进空间

荷兰没同意

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据美国彭博社7月6日报道，美方知情人士透露，美国正在向荷兰政府施压，要求该国的半导体制造商阿斯麦公司（ASML）禁止对华出口生产全球大量芯片所需的的主流设备

彭博社指出，美国是以此扩大遏制中国崛起的行动

资料图报道称，华盛顿方面要求荷兰方面实施的限制措施，将使现行的向中国出售最先进设备的限制范围进一步扩大，此举旨在阻挠中国成为世界领先的芯片生产者