滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片，可能EUV光刻机就无法胜任了，要推出全新一代技术，至于是什么技术，目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机，可以生产0.768nm的芯片，但无法大规模量产

而俄罗斯在研究X射线光刻机，没有光掩模板，直接光刻，据称可以用于1nm芯片，但没有样品出来

很不错，做工精细。没配SATA线，附件电脑店买一条，装上，电脑认不出。进BIOS设置，解决。读盘速度：非常好读盘声音：非常好稳定性能：非常好轻薄程度：非常好外形外观：非常好

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从路线图来看，TWINSCAN EXE：5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于2nm甚至以下先进制程的生产

国外曾有分析师直言，“我敢打赌，英特尔为这一权利花了很多钱，因为他肯定不是唯一想先得到这种机器的公司”

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而双边的这一正常的商业往来却引起了美国方面的忌惮，美国方面多次派人前往荷兰进行施压，要求荷兰不得向我们提供光刻机，但是屡次遭到了荷兰的拒绝

中国有多少台荷兰光刻机

不管是台积电，还是三星，或者intel，都不敢也不能得罪ASML，否则不卖EUV光刻机给你，就“芭比Q”了

按照ASML CTO的说法，到2025年时，ASML会推出全新一代的极紫外线光刻机，型号会是NXE:5200，其采用的数值孔径会达到0.55NA，数值孔径越大，精度越高

说起EUV光刻机，大家都非常熟悉了，这是生产7nm及以下芯片时，必须使用的光刻机

更重要的是全球仅有ASML一家厂商能够生产，可以说ASML卡住了全球芯片制造企业的喉咙，大家要生产7nm及以下的芯片，就必须找ASML

如今在全球市场上，能生产出先进EUV光刻机的只有ASML公司一家；凭借着垄断的优势，也让ASML公司在光刻机领域赚的是盆满钵满；而ASML公司也曾公开表示：就算是公开EUV光刻机的图纸，中国也造不出来！这也说明光刻机是非常难造的；据悉一台EUV光刻机拥有超10万个零部件，这些零部件精选全球超5000家供应商；而我们想要凭借一己之力去造EUV光刻机也显然是不太现实的！值得一提的是，不管怎么说EUV光刻机是人造的，而不是神造的，只要我们肯加大自主研发的力度，那么就没有什么是不可能的；为了解决卡脖子的难题，华为等众多的国产科技企业都选择了埋头苦干，在国内科技企业的不不断努力下爱，现在国产光刻机已经实现14nm技术的突破，未来也是十分可期的

东西已经收到！手感不错！用料扎实！质量很好！平常用基本没有问题！先锋刻录机质量一直很稳定，买来试用刻录了几张光盘，没什么问题。

美国在今年7月上旬就曾向荷兰施加压力，禁止向中国出售相关的光刻设备

阿斯麦公司（ASML）的CEO早就曾表示“这是一项成熟的技术”，不愿向中国禁止销售DUV光刻机

而就在今天，荷兰光刻机巨头ASML的CEO温彼得又一次表示，中国市场至关重要，若是美国命令荷兰禁止向中国出售相关的光刻设备，全世界范围内的半导体市场供应链将会中断

光刻机是人类科技最高峰

光刻机被称作“半导体工业皇冠上的明珠”，与航空发动机并列，是人类工业难度极限

而想要保证光刻机良好运转，每个环节的成功率都要高达99.99%，这是工程学上的巨大挑战

温宁克曾表示，如果想打破ASML等国外企业制定的技术规则和垄断优势，中国需要集体参与精密零部件的供应开发

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在与中国的贸易中，阿斯麦目前只供应了技术相对低一档次的DUV（深紫外线光刻机），该设备瞄准的是工艺技术在7纳米以上芯片的制造，覆盖了目前市场上大部分成熟制程的芯片，而中国也是阿斯麦DUV光刻机的最大客户之一

据媒体称，美国官员近阶段一直在向荷兰政府施压，要求其禁止向中国销售浸没式光刻机，这也是阿斯麦DUV光刻机中最先进的设备

在发力 0.33 NA EUV 光刻机的同时，ASML 也在冲刺研发 0.55 NA EUV 光刻机

ASML 高 NA 系统路线图ASML 发言人向媒体介绍，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小 1.7 倍、同时密度增加 2.9 倍

荷兰光刻机进入深圳厂区

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那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm