EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大,在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候,DUV光刻机量产自然就更没难度了
中国在光刻机技术方面的快速突破,已让ASML感到担忧,事实上此前在美国的诸多压力下,ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展,中国迟早能解决光刻机问题
中国在光刻机方面的技术迅速突破,在于此前具有一定的基础,事实上在1990年代的时候,我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大,只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大,以及当时发展芯片产业时机未到,国产的光刻机产业链逐渐凋零,如今经过近十年时间的努力,国内光刻机产业链再度打通也就不在话下