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低端光刻机也不准卖!美国施压荷兰政府

京东购物真方便，一直购买中 读盘速度：超快，识别光盘也不错，兼容性能超好。 外形外观：黑色，自用真好，看着舒服。。 轻薄程度：小巧轻便，放在笔记本包里也正好，方便我带出去 产品包装：京东物流快，包装也好，没有损坏，给快递师傅点赞。 读盘声音：读盘声音轻，能接受。

送货特快！下单后15小时收到货，包装完好，有防震包装，货品与图片介绍完全一致。播放图像清晰，流畅，色彩无失真。刻录效果待使用后再追加。

很好用，而且用了一段时间了还没坏，我们经常用，也经常会用坏，所以买这个很划算 稳定性能：好

欧美百般阻扰中国

图为国产光刻机考虑到光刻机技术的发展需要大量时间沉淀，在目前阶段，中国应该大力发展中低端光刻机技术，并实现大规模量产交付，以此来扩大产业规模，培养技术人才，只有这样，中国才能追上与西方在技术上的差距，并早日实现高端光刻机的国产化

公司一直在用这个产品，经久耐用，一直在用，非常好用，也可以购买我们公司的产品。

图为ASML光刻机在AMSL的公司份额占比中，美国企业占据了近一半，这也意味着AMSL实际上是被美国掌控着，这也给AMSL生产光刻机带来了无尽的方便，AMSL生产的每一台光刻机，都由来自美德日韩等国供应商提供关键部件，以AMSL最先进的EUV光刻机为例，该光刻机的光源技术来自美国，工作台跟镜头来自德国，激光器则来自日本，要钱有钱，要资源有资源的AMSL，垄断市场是必然的

中国芯片制造企业以现有的DUV光刻机将芯片制造工艺推进至7nm，国内的芯片封装企业通富微电等又研发了5nm芯粒封装技术，如此国产芯片可望提供接近5nm工艺性能的芯片，对ASML的EUV光刻机需求迫切性下降

在先进工艺研发难度、成本高的情况下，台积电如今也开始转向以封装技术提升现有工艺的性能以满足芯片企业的要求，台积电已联合了19家芯片企业成立“3D Fabric ”联盟，以先进的封装技术提高5nm、7nm等现有工艺的性能，甚至可以提升无需EUV光刻机的7nm、16nm工艺芯片的性能

用起来方便，装好也完美，很契合原机。比较轻薄啊，很轻，读盘性能可以，等着试试刻录

至于佳能，尼康，则主要集中在最低端的还有UV（i-line）光刻机领域，在次高端的DUV领域，都表现一般

至于国产光刻机，虽然可以用于90nm，但其实晶圆厂们用得非常少，并且主要不是用于前道，也就是晶圆制造这一块，更多是用于后道，比如封测等领域

大品牌都是值得信赖的，刻录很稳定，读盘基本没有声音。。真的是即插即用，小巧好看，驱动非常快速，播放顺顺利利的，刻录也非常给力，我第一张就刻录就成功了，太顺利了吧！好东西！

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33家单位不同程度地引进各种集成电路生产设备，累计投资约13亿元

然而引进的设备大多是落后淘汰的二手货，最终只有少数几条产线建成使用

而且当年的一份研究报告指出，引进过程中，大量引进硬件，而忽视了技术和管理，同时科研与生产结合不紧密，经费不足也是重要原因

国产光刻机的艰难往事

比如清华大学的徐端颐团队，成立之初多达数百人，有技术超群的钳工、搞精密机械加工的师傅，还有搞计算机控制的技术工人，但是没有一个人懂光刻机，徐端颐团队研制新设备，全部图纸都要自己设计，全部零部件都是自己加工制造，一切从零开始，边干边学

报道称，美国政府希望通过此举限制中国芯片代工企业的产能，同时防止中国在自主光刻机领域取得技术突破

据了解，DUV光刻机虽然不如EUV光刻机先进，但也是目前半导体代工企业使用频率最高的光刻机之一，在7纳米及以上工艺制程的芯片生产中，DUV光刻机的普及率远远高于EUV光刻机

先锋光存储产品一直是全球领先的，其实我更想购买的是DVD-ROM，因为我只用来抓取CD。从EAC抓取数据来看，读取偏移校正为6，这个数值相当低，也就是说抓取的效果是非常好的，有些光驱这个数值能达到50、60或者更高，因此这是评判一只光驱最好的维度之一。每个人用途不一样，我只是从抓取CD的角度来看是非常完美的，而且在抓取的过程中震动和噪音非常低。最后一句：先锋这款光驱是性价比之王！

中国会做光刻机

读盘速度：很快，比以前家里的快多了。 读盘声音：声音小，也很正常。听到一直在读盘的声音感觉心里很踏实。先锋真的好牌子。 稳定性能：稳定好用，没有出现过问题。 轻薄程度：轻薄好拿。快递给我的时候掉到地上了，也没有摔坏。还很正常的用。 外形外观：外观好看。真的不错

在美国限制中国芯片发展方面，ASML是其中的重要一环，然而近期ASML和它所在的荷兰首次发出不同的声音，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔表示将捍卫荷兰企业的经济利益，以确保荷兰的经济发展

　　一台光刻机所集结的是美国的光源设备、德国的蔡司镜头、日本的光学技术和台积电与三星提供的制程技术，光说一个蔡司镜头就是需要几十年甚至上百年的技术沉淀和不断测试才能做到的，我国光刻机紧追慢赶从90nm到29nm就用了18年

两人就“全球产业链供应稳定”和“强调共同维护”进行了友好对谈，中方还表达了对“美国取消对华加征关税和制裁、公平对待中国企业”的关切，这次的交流被定论为“极富有建设性”

　　转头美国就对中国芯片制造使了个绊子，可真是坐实了它“种地不出苗——都是坏种”的名

之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，

韩国人知道这个道理，荷兰人也自然明白

日前，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔在接受本国媒体采访时表示，在半导体出口问题上，荷兰“会做出自己的判断“”不会全盘照搬美国（对华禁令）措施“

终于拥有自己的刻录光驱了，比我上一个只能读取的上了一个台阶，很满意！现在很多机箱都没有光驱位了，为了方便起见，配了先锋DVD刻录机，质量很好。

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构