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中国买到了光刻机

这个价格什么概念，资料显示重型航母（排水量60000吨以上）航母造价是35亿美金左右，而上述光刻机成本等同于f35战斗机造价（1.5-2.5亿美元）

尽管如此昂贵，但Intel此前表示自己是全球第一个下单的客户，台积电也跟进了

流畅速度快，全新，非常实用，京东物流就是快 先锋刻录光驱多次买了 好用 性价比超高 good

自打U盘流行，硬盘容量大了之后，光驱就离我们越来越远了，刻录机也不例外，现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐，而CD正是最好的载体，所以空着多年的光驱位又要启用了，当日下单次日即收到，趁孩子睡午觉立即刻了两张盘，刻录能支持最大速度，但我用的是最低速度来，一张CD刻好也只需十来分钟，刻好立即回放读碟，效果棒棒的，这光驱不管读还是读都叫我满意！

光刻机板块策略机会：光刻机板块情绪策略主要条件板块:光刻机;游资控盘度(游资高控盘, 游资关注);预收账款同比变化≥10%;在建工程同比≥10%;筛选条件：选股数量 (3,5);筛选因子:波段操作评分(从大到小);黑名单剔除;ST剔除;涨跌停剔除;光刻机板块情绪策略来源：阿牛智投我们按照上面的选股条件，依托大数据系统构建一个策略模型，策略表现情况如下：在2017年8月2日到2022年8月2日这五年时间里，策略年化收益能够达到24.89%，累计收益高达204.03%，最大回撤可以控制在27.91%，风险回报率达到1.00；而光刻机板块在这段时间里累计上涨了90.56%，上证指数更是累计下跌3.01%；策略表现在跑赢大盘的同时，也远远好于光刻机板块本身的上涨幅度

首先感谢京东这个平台，购物体验极致，物流配送服务完美，京东购买配件放心，之前的一直用的很好，没出现过问题，这是给公司组配办公电脑n台了，这次依旧选择京东，一次点亮，效率高，不卡机，直接公司转款，开具增值税发票，完美。

非常好，便宜实惠，安装方便，不用任何驱动，内置光驱比外置的寿命长，就是携带不方便，是sata接口的，没有数据线，物流速度非常快！

美国禁止向中国出售EUV光刻机

以前买过一个先锋上翻盖的移动外置光驱，用着非常好，读盘快，刻录快，而且上翻盖很方便，拓展上方空间，不占平面位置，打开后安放和取出光盘也都很方便，不知道现在为什么不再出这种上翻盖的外置光驱了。相信先锋的品质所以这次又买了两个，希望质量一如既往。

刻蚀机与光刻机有什么区别

除了这些以外，还有光刻机的机房环境也至关重要，由于灰尘颗粒会吸收光，首先机房必须是无尘，工作时必须穿无尘服，第二机房的光照环境是暖光灯减少对极紫外光的刺激，第三光刻机属于精密型仪器，不能受到外界干扰，所以机房下方必须架空以减少振动对设备产生的损坏

2025年量产

全球三大光刻机特点

要知道，目前公开称有5nm芯片制造能力的只有台积电和三星两家

而真正第一款出货的5nm芯片，是苹果2020年秋季发布会上首次公布的A14仿生芯片，这款SoC的晶体管数量达到118亿个

而第二款用上5nm芯片的则是集成153亿个晶体管的华为麒麟9000

在芯片制程逐渐缩小的路上，三大巨头你追我赶

读盘声音：声音小 轻薄程度：比较有质感 外形外观：质量看着很好 产品包装：包装完美 读盘速度：运行快 稳定性能：特别稳定

据外媒报道的消息可知，荷兰已经同意与老美加强合作，共同限制中国企业取得先进芯片技术的管道，把对中国半导体的出口管制法规划，并与美国此前出台的一系列半导体出口措施保持一致

虽然双方还在谈判中，但是以老美的秉性，大概率会禁止ASML向中国市场出售DUV浸润式光刻机

▲ 临港重装备产业区F16-01地块项目根据公开资料显示，鼎泰匠芯母公司是闻天下科技集团有限公司，闻天下旗下的闻泰科技（安世半导体）是全球知名的半导体IDM企业，在功率半导体领域形成了产品设计、仿真、制造、封装、测试、标定、可靠性试验验证等一系列IDM核心技术能力，在车规级半导体领域处于全球领先，对晶圆制造建厂、设备、工艺及产品等都有着丰富的认知和实践经验

为了遏制中国科技发展，美方不仅施压荷兰光刻机制造商阿斯麦（ASML）禁止向我国出售14nm及以下工艺的DUV光刻机，还一直试图要求该公司禁止对华销售部分旧款光刻机，以及所有制造芯片所需的主流技术

光刻机是芯片制造环节的一种关键设备，在芯片的工艺制程上，也主要是由光刻机来决定的

根据芯片制造环节的不同，可以分为前道光刻机和后道光刻机，ASML的优势在于前道光刻机，而我国上海微电子的优势，则是后道光刻机

其中决定芯片制程的就是前道光刻机，所以由于ASML使用了部分老美的技术，因此EUV光刻机就受到修改芯片规则的制约，无法出货大陆中企

装上去试了一下。运转声音很静，读碟很快，比以前那个好多了。好用，以前一直都是喜欢用先锋刻录机，非常好用，京东购买，还便宜，性价比高。

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   日本和荷兰能够成为世界唯二两个可自主研发光刻机的国家，很大程度上都因为两国的加工能力起步很早

目前最先进的光刻机分为两种:EUV（极紫外光）和DUV光刻机（深紫外光），极紫外光刻机的波长是13.5nm，而合理制程为3-7nm，光刻机最重要的是投影就是通过光将电路图案通过镜片放大投影到硅片上（跟平常上课用的投影仪一样），但是极紫外光很难获取到，要通过特殊的手段，首先是光源，极紫外光在电磁波光谱中属于短波，在光刻机中使用193nm的光源变成13.5nm的光源，一直困扰科学家多年，直到一位科学家提出通过击打锡滴来获取更短的波长，但是由于光刻机的光源通过各种反光镜的传输，实际收到的光源强度只有2％，所以有科学家提出击打两次来提高光强