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中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

福建安芯光刻机股票代码

在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!

比如，7纳米逻辑芯片晶圆厂的光刻机投资中：1，干式DUV光刻机的投资比例是10%,；2，浸没式DUV光刻机的投资比例大约是50,；3，数值孔径NA0.33的第一代EUV光刻机的比例是40%

很好，刻碟顺畅，外观经典，包装标准，安装简单，配件齐全，质量可靠，经久耐用。东西很不错，试用了后觉得效果很好，快递速度也很快，收到后整体满意。

先锋光存储产品一直是全球领先的，其实我更想购买的是DVD-ROM，因为我只用来抓取CD。从EAC抓取数据来看，读取偏移校正为6，这个数值相当低，也就是说抓取的效果是非常好的，有些光驱这个数值能达到50、60或者更高，因此这是评判一只光驱最好的维度之一。每个人用途不一样，我只是从抓取CD的角度来看是非常完美的，而且在抓取的过程中震动和噪音非常低。最后一句：先锋这款光驱是性价比之王！

这比挖比特币还要费电！我们自己的光刻机做到了什么水平呢？ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外光制程7nm、甚至3nm的芯片

我国主要还是采用深紫外光的193nm制程工艺，能做26nm的芯片

据报道，上海微电子公司已经攻克了14nm光刻机，尽快还达不到国际最先进的光刻机水平，但是在手机、汽车等民用领域，以及武器装备用的芯片上，我们已经可以自给自足

报道称，如果荷兰政府和阿斯麦公司“低头”，后者对华出口业务必将进一步减少，包括中芯国际以及华虹半导体在内的一大批中国大陆半导体企业，可能会受到沉重的打击

在此之前，因为美国政府的限制，阿斯麦公司被禁止向中国出口用于14纳米工艺芯片制造的EUV光刻机，不过比较落后的DUV光刻机，并不在禁售范围内，此次美国政府的意图是，将后者也纳入对华禁售范围

读盘速度：很快，比以前家里的快多了。 读盘声音：声音小，也很正常。听到一直在读盘的声音感觉心里很踏实。先锋真的好牌子。 稳定性能：稳定好用，没有出现过问题。 轻薄程度：轻薄好拿。快递给我的时候掉到地上了，也没有摔坏。还很正常的用。 外形外观：外观好看。真的不错

此前清华大学机械工程系朱煜教授带队的清华大学研发团队就已研发出光刻机双工作台，由此中国成为全球第二个可以生产双工作台的国家；此外激光头、镜头等厂商也陆续生产出先进的组件，各个产业链企业的努力正逐渐完善国内的光刻机产业链

近日国内光刻机产业链的企业之一，传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利，加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果，国产EUV光刻机已取得了重大进展，或许数年后国产EUV光刻机就将量产，这正让ASML后悔莫及

硬抗美国施压!荷外贸大臣:对华出售光刻机 荷兰...中科院电子束光刻机研发团队

不错，很好，喜欢?，给力?，哈哈?果然是大牌子，质量很好，声音安静，读取刻录都很顺畅

据媒体称，美国官员近阶段一直在向荷兰政府施压，要求其禁止向中国销售浸没式光刻机，这也是阿斯麦DUV光刻机中最先进的设备

包括商务部副部长Alan Estevez在内的美国高级官员代表团，将于本月前往荷兰讨论相关的出口管制问题，但据媒体预计本次会谈不会立刻达成协议

而作为芯片领域关键一环——EUV和DUV光刻机的生产国，荷兰的态度无疑是相当重要

5nm光刻机到手

由于要实现更精细的工艺节点，光刻机必须要把光刻画成直径极其微小的线条，而这个初始光源就显得尤为重要了

EUV光刻机使用的是13.5纳米的极紫外线，这种紫外线是短波紫外线多次反射后得到的

而得到这个光的方法，不亚于用乒乓球打苍蝇，而且是每秒要打五万次，次次都得击中

很满意的一次购物，商家服务好，发货神速，物流也很给力，宝贝收到后非常喜欢，买得放心，用得安心当时买的时候还在犹豫价格，买来之后一点都不后悔，而且物流还快，可以入手

即插即用，免包装程序，方便实用。刻录速度很快，1g大约8分钟?(¯﹃¯?)～～外观大气简约瘦小，生产日期今年8月～～

不过根据最新的消息显示，老美方面计划将DUV光刻机也纳入范围当中

此前在EUV光刻机上，ASML的态度比较缓和，但这次直接表示了拒绝，可以说ASML不再遮掩，摊牌了

ASML之所以会在态度上出现这样的巨大反差，出于两个方面的因素，分为外部因素和内部因素

在今年上半年，我们大陆中企为ASML带来的营收贡献，直接占据了份额第一

在2005年之前，ASML在光刻机市场只不过是一个小弟而已，当时真正的光刻机大佬是日本的佳能以及尼康，但是这两个企业卡在了157纳米技术路线上，然后他们一直在想方设法突破干式光刻机这个技术难题不过面对光刻机技术瓶颈，当时ASML另辟蹊径，采用了浸润式光刻技术，他们不再片面的追求突破157纳米路线，而是退回193纳米，结果通过采用浸润式光刻技术，他们一路开挂，远远把尼康和佳能甩在后面

到货拿回家就马上装上了，已经第二次买先锋牌的光驱，质量还是很好，很实用，京东快递小哥很有礼貌，服务很周到。

ASML的EUV光刻机时代正在落幕

公司一直在用这个产品，经久耐用，一直在用，非常好用，也可以购买我们公司的产品。

在先进工艺研发难度、成本高的情况下，台积电如今也开始转向以封装技术提升现有工艺的性能以满足芯片企业的要求，台积电已联合了19家芯片企业成立“3D Fabric ”联盟，以先进的封装技术提高5nm、7nm等现有工艺的性能，甚至可以提升无需EUV光刻机的7nm、16nm工艺芯片的性能