关于光刻机
国产的光刻机已形成了一条完整的产业链条,成为全球唯一拥有光刻机全产业链的经济体,双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面都已有相关企业研发成功,如今国内企业在光线折射技术方面的突破,无疑将补上最后的短板,期待国产光刻机的量产
曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有泵灯,准分子激光器等
近日有国内企业公布了一项关于光线折射等的EUV光刻机专利,这对于国内光刻机产业一直努力的EUV光刻机技术无疑是重大的突破
目前EUV光刻机仅有ASML一家企业可以生产,而ASML深受美国的影响,在美国的影响下导致ASML无法自由出货EUV光刻机,这也成为中国芯片制造的最大障碍